XFH高真空烘箱适用领域和应用

FRANCE ETUVES XFH 高真空烘箱适用于半导体、新能源、航空航天、制药等领域的精密干燥与热处理。

最高工作温度：200℃

如有特殊需求或工作温度超过200 °C，请

→ 易氧化产品的烘干

→ 航空航天

→ 脱气

→ 光学

→ 电子、半导体

→ 新能源电池

→ 科学研发

      调节·编程·记录

→  彩色触摸屏

→  温度控制

→  真空管理

→  彩色图表显示

→  程序编辑与管理

→  数据记录

→  真空相关参数管理

→  PID参数管理

铝制托盘

XFH高真空烘箱配备铝制托盘；

有多个悬挂层，方便装卸；

单个托盘最多可承重30公斤；

托盘可轻松拆卸，方便清洁。

真空值：可达10⁻⁶ mbar